最尖端技术
颇尔cmp过滤可减少缺陷和实现工艺稳定性
通过控制浆料颗粒尺寸和浓度，颇尔cmp过滤器可实现许多不同半导体工艺性能的最大化。最尖端的cmp过滤技术可提高产率，减少缺陷。采用我们行业领先的过滤器设计，可将浆料颗粒尺寸、形状和大颗粒（lpc）密度控制在规定的工艺参数范围内。
有效过滤可减少缺陷和工艺处理。缺陷是cmp工程师要处理的最重要的问题之一。这些缺陷对产率产生不良影响，浪费客户时间和金钱。颇尔优质的cmp产品可比其它方案实现更佳的滤除效果和更稳定的性能。这种滤除以及质量改善使得拥有成本总体下降。颇尔专家将尽量利用现场过滤方案，提高浆料供应商和设备制造商的过滤通量，无论是在cmp工具使用点处还是浆料分配系统中。
产品：
颇尔kleen-change®内联囊式过滤器是一种使用点cmp应用的大型九游会登陆的解决方案。其滤材可定制，以用于许多关键平面化工艺。profile nano过滤器使用业内最细的熔喷纤维制成，与其它熔喷产品相比，可减少缺陷。这些过滤器开发用于优化过滤器各区段的分级。过滤器内各区段规格分别不同，确保在不同过滤器深度内稳定加载颗粒。cmp starkleen nano囊式过滤器具备profile nano的所有技术优点，包括最细纤维和优化分级规格，为客户使用点应用提供更大尺寸和匹配定制化优势。该囊式过滤器可选4.5"、8.5"和13"长度，装有flaretek和npt配件。
应用：
正常情况下，浆料过滤器位于半导体抛光系统内3个位置：1）浆料再循环/全局回路中，2）使用点处（pou），其中囊式过滤器安装在抛光工具附近，以及3）从浆料供应商手提包装/桶到日用储罐。颇尔公司提供用于大型和pou应用的各种滤材和结构，使基材/滤材生产商能够满足超光滑晶圆的要求。通过使用优质过滤系统，可以实现工艺稳定性。
优点：
- 提高工艺控制和稳定性
- 提高面积/工艺效率
- 延长过滤器寿命（或浆料通量）
- 减少缺陷
- 增加浆料供应系统pm频率
颇尔cmp过滤器为实现最大半导体工艺性能而设计。欢迎联系九游会登陆，了解颇尔行业领先的过滤技术，以实现工艺性能最大化。
文献库
有关提高工艺效率的更多信息，请联系九游会登陆的过滤专家团队。
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