清除有害颗粒
高级显示器清洗系统实现大流量和行业领先的颗粒清除
湿法蚀刻清洗
我们的湿法蚀刻清洗系统为灭菌系统提供清洗九游会登陆的解决方案，包括再循环化学浴、高压喷水和机械洗涤系统。这些可定制过滤器可避免显示器内表面出现缺陷。湿法蚀刻过滤器可强力消除化学浴中的杂质，避免损坏显示器功能。可选30-100nm范围内的最先进产品，满足各种湿法蚀刻清洗过程中的所有微电子显示器应用。
抛光后清洗
颇尔提供用于大型和pou应用的各种滤材和结构，使基材生产商能够满足超光滑晶圆的要求。通过清除有害颗粒污染物，这些高级过滤器可提高清洗后的清洁度。可根据不同工作压力和化学特性要求进行定制。upk设计采用全氟聚合物零件，可用于各种化学特性要求。
我们的后抛光系统可提高工艺稳定性，避免下游设备结垢，从而缩短停机时间、增加维护节约和提高工艺产率。
光刻工艺清洗
我们的光刻过滤器系统使用多种膜材料，可有效清除光刻工艺化学品中的污染物。散料过滤器和使用点（pou）分液过滤器可避免颗粒有害沉降，减少显示器基板上的缺陷。除了清除颗粒和凝胶外，pou过滤器还将微气泡降至最低，减少化学品消耗和提供独特相容性。
我们的过滤器采用优化设计，在大流量条件下可产生无可比拟的颗粒清除效率，适用于产生高分辨率大型基材尺寸所需要的腐蚀性化学品。ectfe滤材设计清除凝胶/软颗粒，延长化学品使用寿命。
优点:
- 提高工艺稳定性
- 提高面积/工艺效率
- 延长化学品使用寿命
- 减少显示器缺陷
我们的显示器清洗系统可清除重要清洗系统中可导致缺陷的污染物。如需更多信息，请立即联系颇尔专家。
有关提高工艺效率的更多信息，请联系九游会登陆的过滤专家团队。
我们的产品
我们行业领先的产品九游会登陆的解决方案可满足您客户的需求。
让我们一起寻找正确的九游会登陆的解决方案
让我们合作。我们想立即与您分享我们的创新过滤九游会登陆的解决方案。请联系九游会登陆经验丰富的主题专家，了解我们为您提供帮助。谢谢，我们将尽快协助您。
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we will get in touch with you very shortly.