实现最大性能
可提高过程能力且减少微痕的数据存储cmp过滤
通过控制浆料颗粒的形状、尺寸和浓度，我们的cmp过滤器可实现更高产率，减少缺陷。采用我们行业领先的过滤器设计，可将浆料颗粒尺寸、形状和大颗粒（lpc）密度控制在规定的工艺参数范围内。
有效过滤可减少缺陷和工艺偏离，从而减少微痕。我们的专家将充分利用现场过滤方案，通过正确实施延长浆料寿命和浆料分布系统寿命。我们的cmp过滤器具有连续的异形微孔结构，可实现内置预过滤和，延长工作寿命。
应用：
浆料过滤器通常位于硬盘抛光系统中的2个位置：浆料再循环回路中和使用点（pou）处，其中囊式过滤器安装在抛光工具附近。颇尔公司提供用于大型和pou应用的各种滤材和结构，使基材/滤材生产商能够满足超光滑晶圆的要求。颇尔过滤器可根据工作压力和浆料化学特性进行定制。通过使用颇尔cmp过滤系统，可以实现工艺稳定性。
优点：
- 提高工艺控制和稳定性
- 提高面积/工艺效率
- 延长浆料寿命
- 减少微痕
通过清除污染物和控制浆料尺寸、形状和化学性质，我们的cmp过滤器可提高任何cmp工艺。请联系颇尔专家，了解优化您的cmp浆料过滤，实现最大的工艺效果。
有关提高工艺效率的更多信息，请联系九游会登陆的过滤专家团队。
我们的产品
我们行业领先的产品九游会登陆的解决方案可满足您客户的需求
实现最大性能
可提高过程能力且减少微痕的数据存储cmp过滤
让我们一起寻找正确的九游会登陆的解决方案。
让我们合作。我们想立即与您分享我们的创新过滤九游会登陆的解决方案。请联系九游会登陆经验丰富的主题专家，了解我们为您提供帮助。谢谢，我们将尽快协助您。
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